Fog Panther v0.8.4 - Werkzeuge, Zeichenflächen und Muster

ZUR SOFORTIGEN VERÖFFENTLICHUNG

Fog Panther v0.8.4 bringt sieben Werkzeuge, Zeichenflächen, ein vollständiges Mustersystem und Malen in 16 Bit. Die neuen Werkzeuge Rahmen, Perspektivisches Freistellen, Zoom, Ansichtdrehung, Objektauswahl, Slice und Korrekturpinsel kommen zusammen mit Auswahl > Motiv und dem Arbeitsbereich Auswählen und maskieren. Zeichenflächen ordnen mehrere Bildschirme oder Formate in einem Dokument an, Muster stehen für jede Füllung, jeden Effekt und jeden Pinsel zur Verfügung, und das Ebenen-Bedienfeld erhält die fünf Fixierungen von Photoshop und eine Einstellung Fläche. Fog Panther ist jetzt außerdem in vereinfachtem Chinesisch und Hindi verfügbar.

Neue Werkzeuge

Das Rahmen-Werkzeug (K) zeichnet rechteckige und elliptische Rahmen, die ein Bild aufnehmen und es auf ihre Form beschneiden. Das Werkzeug Perspektivisches Freistellen (Umschalt+C) richtet ein fotografiertes Dokument oder eine Fassade beim Freistellen gerade aus. Das Zoom-Werkzeug (Z) folgt den Zoomstufen von Photoshop, und das Werkzeug Ansichtdrehung (R) dreht die Arbeitsfläche, ohne die Pixel zu verändern. Der Korrekturpinsel malt die Wirkung einer Korrektur nur auf die Bereiche, die sie benötigen.

Das Werkzeug Objektauswahl wählt ein Objekt anhand eines groben Rechtecks oder Lassos aus, und Auswahl > Motiv findet das Hauptmotiv eines Fotos selbstständig. Kanten werden in einem eigenen Arbeitsbereich Auswählen und maskieren verfeinert. Die Werkzeuge Slice und Slice-Auswahl zerlegen ein Bild in Slices für das Web und exportieren sie mit einer HTML-Seite.

Zeichenflächen

Zeichenflächen ordnen mehrere Bildschirme, Seiten oder Formate nebeneinander in einem Dokument an. Sie lassen sich im Dialog Neues Dokument oder mit dem Zeichenflächen-Werkzeug erstellen, haben einen eigenen Hintergrund, verschachteln Ebenen automatisch und lassen sich in separate Dateien oder in ein einziges PDF exportieren. Zeichenflächen lassen sich aus PSD-Dateien öffnen und in PSD-Dateien speichern.

Muster

Eine Musterbibliothek kommt mit einem Bedienfeld Muster und Muster festlegen. Musterfüllungsebenen bleiben bearbeitbar, der Musterstempel malt mit einem Muster, und .pat-Dateien lassen sich importieren. Muster steuern jetzt auch die Musterüberlagerung, eine Musterkontur und die Struktur von Abgeflachte Kante und Relief, und sie bewegen sich mit ihrer Ebene oder bleiben an Ort und Stelle, wie in Photoshop. Muster bleiben beim Speichern und erneuten Öffnen in PSD-Dateien erhalten.

Malen

Malen funktioniert jetzt in 16-Bit-Dokumenten in RGB, Graustufen und Lab mit voller Präzision. Die Malsymmetrie spiegelt Striche an einer oder mehreren Achsen, Bearbeiten > Verblassen schwächt den letzten Strich oder Filter ab, und Transparente Pixel fixieren hält die Farbe innerhalb dessen, was bereits vorhanden ist. Umschalt-Klick zeichnet gerade Linien, die Zifferntasten legen die Deckkraft fest und zusammen mit Umschalt den Fluss, und Doppelpinsel und Pinseldeckung folgen dem gemessenen Verhalten von Photoshop genauer.

Ebenen und Benutzeroberfläche

Das Ebenen-Bedienfeld erhält die fünf Fixierungen von Photoshop - Transparenz, Pixel, Position, Verschachtelung in Zeichenflächen und alles - sowie eine Einstellung Fläche neben Deckkraft. Die Fensterschaltflächen wandern in die Zeile der Menüleiste und geben der Arbeitsfläche mehr Platz. Große PSD-Dateien öffnen sich schneller und bleiben reaktionsfähig, während Ebenen verschoben werden.

Sprachen

Fog Panther ist jetzt in vereinfachtem Chinesisch und Hindi verfügbar, neben Englisch, Deutsch, Spanisch, Französisch, Italienisch, Japanisch und Portugiesisch. Die Sprache lässt sich in den Einstellungen ändern, ohne die Systemsprache zu ändern.