Schnittmasken, Typografie-Bedienfeld und mehr

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Fog Panther v0.4.0 ist ein umfangreiches Update mit neuen Bearbeitungsmöglichkeiten, einem verbesserten Text-Arbeitsablauf und erweiterten nicht-destruktiven Korrekturoptionen. Diese Version bringt Schnittmasken, Steuerelemente für Textabstände, fünf neue Arten von Korrekturebenen, ein eigenes Typografie-Bedienfeld und ein Raster über der Arbeitsfläche.

Neue Funktionen

Schnittmasken - Ebenen können jetzt auf den Alphakanal der darunterliegenden Ebene beschnitten werden, sodass sie nur innerhalb des Inhalts der Basisebene sichtbar sind. Das ist für die PSD-Kompatibilität unverzichtbar und eine Standardfunktion in professionellen Bildbearbeitungs-Arbeitsabläufen. Mehrere aufeinanderfolgende Ebenen können dieselbe Basis nutzen, und beschnittene Korrekturebenen wirken nur auf den Inhalt der Basis. Das Speichern und erneute Öffnen in den Formaten PSD und FOG wird vollständig unterstützt.

Typografie-Bedienfeld - Ein neues Seitenleisten-Bedienfeld vereint alle Steuerelemente für die Textformatierung: Schriftauswahl mit großer Vorschau, Schriftschnittauswahl, Schalter für Fett/Kursiv/Unterstrichen/Durchgestrichen, Textfarbe mit Pipette, horizontale und vertikale Ausrichtung sowie die neuen Steuerelemente für Laufweite und Zeilenabstand. Das Bedienfeld wird automatisch eingeblendet, wenn das Textwerkzeug ausgewählt ist, und lässt sich über das Menü Bedienfelder ein- und ausblenden.

Zeichenabstand & Zeilenabstand - Zwei grundlegende Textsteuerelemente, die bisher fehlten. Der Zeichenabstand (Laufweite) regelt den Abstand zwischen den Zeichen, der Zeilenabstand die Höhe zwischen den Zeilen. Beide werden pro Textobjekt gespeichert und im FOG-Format erhalten.

Erweiterte Korrekturebenen - Fünf neue Arten nicht-destruktiver Korrekturebenen ergänzen die vorhandenen Tonwertkorrektur, Gradationskurven und Farbton/Sättigung:

• Helligkeit/Kontrast
• Belichtung
• Dynamik
• Farbbalance (mit den Tonbereichen Tiefen/Mitteltöne/Lichter)
• Umkehren

Jede bietet einen Bearbeitungsdialog mit Live-Vorschau, Schiebereglern mit Nullmarkierung und Einrasten bei null. Der Dialog Farbton/Sättigung zeigt jetzt ein Farbspektrum am Farbton-Regler. Alle Arten unterstützen Ebenenmasken, Deckkraft, Füllmethoden und Schnittmasken.

Raster - Ein ein- und ausblendbares Raster über der Arbeitsfläche mit einstellbarem Abstand (Standard 50px). Das Raster wird bei geringer Zoomstufe automatisch ausgeblendet, wenn die Linien zu dicht beieinander lägen, bleibt innerhalb der Dokumentgrenzen und bleibt über Sitzungen hinweg erhalten. Erreichbar über Ansicht > Raster.

Fehlerbehebungen

• Doppelte Textdarstellung während der Bearbeitung behoben (Compositor und Werkzeug-Overlay zeichneten gleichzeitig dasselbe Textobjekt)
• Verschiebung der Textposition zwischen Bearbeitungsmodus und übernommener Darstellung bei Zoomstufen ungleich 100 % behoben, verursacht durch auflösungsabhängiges Hinting
• Verschobene oder abgeschnittene Glyphen bei In Pixel konvertieren behoben, durch eine Render-Oberfläche mit Randabstand und übereinstimmende Optionen für die Schriftdarstellung
• Mögliches Hängenbleiben der Anwendung beim Schließen des Fensters behoben, verursacht durch Timer für die automatische Speicherung, die während des Abbaus der Widgets auslösten
• GTK-Warnungen bei der Finalisierung von Popovers beim Wechsel zwischen Textobjekten im Typografie-Bedienfeld behoben

Feinschliff der Benutzeroberfläche

• Nullmarkierungen und Einrasten bei null an allen zentrierten Schiebereglern in den Dialogen der Korrekturebenen (Farbton, Sättigung und Helligkeit, Helligkeit und Kontrast, Belichtung, Dynamik, Farbbalance)
• Der Farbton-Regler zeigt das vollständige Farbspektrum als Verlauf
• Der Dialog Tonwertkorrektur zeigt mittige Teilstriche im Eingabehistogramm und im Ausgabeverlauf, mit Einrasten in der Mitte beim Ziehen von Gamma und Ausgabe
• Symbole für Korrekturebenen im Ebenen-Bedienfeld für alle 8 Arten

Kompatibilität

• Der PSD-Import liest jetzt das Schnittmasken-Byte (wurde bisher gelesen, aber verworfen)
• Der PSD-Export schreibt jetzt den Schnittmasken-Status
• Das FOG-Format speichert Schnittmasken, Zeichenabstand, Zeilenabstand und alle neuen Arten von Korrekturebenen mit abwärtskompatiblen Standardwerten
• Das Rückgängig-System verarbeitet alle neuen Eigenschaften korrekt, einschließlich Textausrichtung, vertikaler Ausrichtung, automatischer Größe, Zeichenabstand und Zeilenabstand (behebt eine bereits bestehende Lücke in copy_text_object_state)

Systemvoraussetzungen

• Linux mit GTK4 (>= 4.10)
• Verfügbar als Flatpak, Snap, .deb, .rpm und Arch-Pakete